BOSS戰(zhàn)：Alpha Ceph

BOSS攻擊方式：

1：3個鉆頭隨機釋放遠程光線，傷害較低。

2：旋轉沖擊（碰到必死）

BOSS站技巧：

P1：BOSS的弱點在于3個鉆頭的連接處，只有在遭受重創(chuàng)后會發(fā)光顯露。平臺上方有大量的彈藥武器與能量武器，平臺下方有彈藥補給與能量補給。使用火箭炮X2或者能量武器對其進行轟炸，會迅速打出弱點。消滅第一只鉆頭后，會被吸到BOSS身邊，狂按A進入P2。

P2：BOSS消失后會出現Ceph獵手X5，護甲較高，可以拾取周圍尸體上的能量武器，站在紅色能量附近進行持續(xù)輸出。BOSS再次出現后，重復P1方法，躲避旋轉沖擊，再次被拉到身邊，狂按A進入P3。

P3：BOSS消失后會出現Ceph獵手X5與Ceph重型機械X1。注意：如果長時間沒有消滅，BOSS也會出現。建議每一階段之前，找到重火力武器放置在平臺下方，BOSS出現后立即進行轟炸，打出硬直。當再次被吸到BOSS身邊后狂按A，進入動畫，發(fā)射炸藥弓箭發(fā)起最后一擊。

站在平臺下方可以卡攻擊視角

BOSS戰(zhàn)時，隱形對敵人有效

當紅色弱點顯露時，迅速瞄準并摧毀，過段時間會關閉，需要重復進攻。

能量武器是最優(yōu)選擇，尤其是站在能量源附近時。

紅色能量源，平臺上下都可以找到。

發(fā)動最后一擊

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